삼성전자가 경기도 평택캠퍼스에 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 기반 파운드리 생산 시설을 구축한다.

지난 2월 EUV 전용 화성 'V1 라인' 가동에 이어 평택까지 파운드리 라인까지 구축해 모바일, HPC(High Performance Computing), AI 등 다양한 분야로 초미세 공정 기술 적용 범위를 확대해 나가겠다는 것이다.

EUV 기반 최첨단 제품 수요 증가에 적기 대응해 파운드리 미세 공정시장을 주도하기 위한 전략이라는 분석이다.

삼성전자는 이달 평택 파운드리 라인 공사에 착수했으며, 내년 하반기부터 본격 가동할 계획이라고 21일 밝혔다.

이번 투자는 삼성전자가 작년 4월 발표한 '반도체 비전 2030' 관련 후속 조치의 일환으로 시스템 반도체 분야에서 글로벌 1위를 달성하기 위한 세부 전략 실행으로 볼 수 있다.

삼성전자는 지난해 화성 S3 라인에서 업계 최초로 EUV 기반 7나노 양산을 시작한 이후, 올해 V1 라인 가동을 통해 초미세 공정 생산 규모를 지속 확대해 왔다.

여기에 2021년 평택 라인이 가동되면 7나노 이하 초미세 공정 기반 제품의 생산 규모는 더욱 가파르게 증가할 전망이다.

또 삼성전자는 생산성을 더욱 극대화한 5나노 제품을 올해 하반기에 화성에서 먼저 양산한 뒤 평택 파운드리 라인에서도 주력 생산할 예정이다.

정은승 삼성전자 DS부문 파운드리사업부 사장은 "5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나갈 것"이라며, "전략적 투자와 지속적인 인력 채용을 통해 파운드리 사업의 탄탄한 성장을 이어나갈 것"이라고 밝혔다.

글로벌 파운드리 시장은 5G, HPC, AI, 네트워크 등 신규 응용처 확산에 따라 초미세 공정 중심의 성장이 예상된다.

삼성전자는 프리미엄 모바일 칩을 필두로 하이엔드 모바일 및 신규 응용처로 첨단 EUV 공정 적용을 확대해 나간다는 전략이다.