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이재용 부회장, 화성 EUV 첫 전용라인 방문
이재용 부회장, 화성 EUV 첫 전용라인 방문
  • 문상현 기자
  • 승인 2020.02.20 18:07
  • 댓글 0
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"시스템 반도체 1등 여정 첫 단추…인류사회 공헌 꿈 담자"
V1라인 7나노 이하 반도체 생산 돌입…차세대 파운드리 핵심기지

이재용 삼성전자 부회장이 20일 올해 2월부터 본격적으로 가동을 시작한 EUV(Extreme Ultra Violet·노광 기술) 전용 반도체 생산라인을 찾아 '시스템 반도체 1위'에 대한 의지를 강조했다.

삼성전자는 이 부회장이 이날 화성사업장을 찾아 이달 본격 가동을 시작한 EUV 전용 반도체 생산라인을 직접 살펴보고 임직원들을 격려했다고 밝혔다.

'V1 라인' 방문에는 디바이스솔루션(DS) 부문장인 김기남 부회장, 정은승 파운드리사업부장 등과 함께 했다.

이 부회장은 "지난해 우리는 이 자리에서 시스템 반도체 세계 1등의 비전을 심었다"며 "오늘은 긴 여정의 첫 단추를 끼웠다"고 말했다.

이어 "이곳에서 만드는 작은 반도체에 인류사회 공헌이라는 꿈이 담길 수 있도록 도전을 멈추지 말자"고 강조했다.

삼성전자 V1 라인 전경
삼성전자 V1 라인 전경

이 부회장이 이날 방문한 V1라인은 최근 7나노 이하 반도체 생산에 돌입했다.

삼성전자는 V1라인에서 초미세 EUV 공정 기반 7나노부터 혁신적인 GAA(Gate-All-Around) 구조를 적용한 3나노 이하 차세대 파운드리 제품을 주력으로 생산한다는 계획이다.

EUV 공정은 파장이 짧은 극자외선 광원을 사용해 웨이퍼(반도체원판)에 반도체 회로를 새기는 기술이다. 기존의 불화아르곤(ArF) 방식보다 세밀한 회로 구현이 가능해 10나노 이하 초미세공정에 적합, 고성능·저전력 반도체를 만드는데 필수적으로 평가받고 있다.

V1라인은 2018년 초 건설을 시작해 지난해 하반기에 완공됐다. 삼성전자는 이 라인에 누적 60억달러(약 7조원)를 투자했다.

올해 말까지 7나노 이하 제품 생산 규모가 전년보다 약 3배 이상 확대할 것으로 삼성전자는 예상하고 있다.

이 부회장은 올해 첫 경영 일정으로 1월2일 화성사업장 내 반도체연구소를 찾은 데 이어 한달여 만에 또 EUV 첫 전용라인을 찾은 것이다.

그만큼 시스템 반도체에 대한 각별한 의지를 나타낸 것으로 해석된다.

앞서, 삼성전자는 지난해 4월 화성사업장에서 문재인 대통령이 참석한 가운데 2030년까지 시스템반도체 분야에 133조원 투자와 1만5000명 채용해 파운드리 세계 1위를 목표로 하는 '반도체 비전 2030'을 발표했다.


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